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La fabrication de semi-conducteurs est la pierre angulaire du développement de la science et de la technologie modernes, avec la recherche continue par l'industrie de circuits intégrés plus petits, plus rapides et plus efficaces, la précision et la complexité technique du processus de fabrication augmentent également, chaque étape est indissociable de la haute performance. , équipement semi-conducteur de haute qualité et de haute précision. En tant que matériau céramique structurel offrant d'excellentes performances, le carbure de silicium (SiC) présente les caractéristiques d'une densité élevée, d'une conductivité thermique élevée, d'une résistance à la flexion élevée, d'un module d'élasticité élevé, d'une forte résistance à la corrosion, d'une résistance aux températures élevées, etc. déformation sous contrainte et contrainte thermique, et peut s'adapter à la forte corrosion et à l'environnement de réaction à ultra-haute température de l'épitaxie, de la gravure et d'autres liens de fabrication de plaquettes. Par conséquent, il a été largement utilisé dans les processus de fabrication de semi-conducteurs tels que le meulage et le polissage, le traitement thermique d’épitaxie/oxydation/diffusion, la lithographie, le dépôt, la gravure et l’implantation ionique.

La fabrication de plaquettes est indissociable des processus d'oxydation, de diffusion, de recuit, d'alliage et autres processus de traitement thermique, et l'équipement semi-conducteur utilisé dans le processus de traitement thermique comprend des fours d'oxydation (qui sont divisés en fours horizontaux et fours verticaux), un traitement thermique rapide (RTP, RapidThermalProcessing ) équipement. En raison de la température de fonctionnement élevée, les exigences de performance des composants dans la chambre de réaction sont également élevées. Les pièces en carbure de silicium fritté de haute pureté présentent les caractéristiques d'une résistance élevée, d'une dureté élevée, d'un module d'élasticité élevé, d'une rigidité spécifique élevée, d'une conductivité thermique élevée, d'un faible coefficient de dilatation thermique, etc., et sont des pièces indispensables dans la chambre de réaction du traitement thermique des circuits intégrés. équipement. Il comprend principalement un bateau vertical , un piédestal , des chambres à air  et des déflecteurs d'isolation thermique.

À l'heure actuelle, la majeure partie de la part de marché du carbure de silicium fritté de haute pureté pour les équipements semi-conducteurs est principalement dominée par des sociétés étrangères telles que le groupe japonais Kyokera et l'américain Quastai. Grâce à l'accumulation et à l'innovation technologiques à long terme, ils ont développé non seulement une gamme complète de produits, mais la technologie de traitement des propriétés des matériaux, de la précision et de la structure complexe a également atteint le niveau de pointe de l'industrie. Il peut fournir des composants spéciaux pour les équipements de base de circuits intégrés tels que les machines de photolithographie, les équipements de gravure au plasma, les équipements de dépôt de films et les équipements d'implantation ionique.